Precision Microjet Laser System para sa Matigas at Malutong na Materyales
Mga Pangunahing Tampok
1. Pinagmumulan ng Laser na Nd:YAG na may Dalawahang Haba ng Daloy
Gamit ang diode-pumped solid-state Nd:YAG laser, sinusuportahan ng sistema ang parehong green (532nm) at infrared (1064nm) wavelengths. Ang dual-band capability na ito ay nagbibigay-daan sa superior compatibility sa malawak na spectrum ng mga material absorption profile, na nagpapabuti sa bilis at kalidad ng pagproseso.
2. Makabagong Microjet Laser Transmission
Sa pamamagitan ng pagsasama ng laser sa isang high-pressure water microjet, ginagamit ng sistemang ito ang total internal reflection upang maipadala ang enerhiya ng laser nang eksakto sa daloy ng tubig. Tinitiyak ng natatanging mekanismo ng paghahatid na ito ang ultra-fine focus na may kaunting scattering at naghahatid ng lapad ng linya na kasing pino ng 20μm, na nag-aalok ng walang kapantay na kalidad ng hiwa.
3. Kontrol sa Thermal sa Micro Scale
Isang integrated precision water-cooling module ang nagreregula ng temperatura sa processing point, pinapanatili ang heat-affected zone (HAZ) sa loob ng 5μm. Ang feature na ito ay lalong mahalaga kapag gumagamit ng mga materyales na sensitibo sa init at madaling mabali tulad ng SiC o GaN.
4. Pagsasaayos ng Modular na Kuryente
Sinusuportahan ng platform ang tatlong opsyon sa lakas ng laser—50W, 100W, at 200W—na nagbibigay-daan sa mga customer na pumili ng configuration na tumutugma sa kanilang mga kinakailangan sa throughput at resolution.
5. Plataporma ng Kontrol sa Paggalaw na may Katumpakan
Isinasama ng sistema ang isang high-accuracy stage na may ±5μm positioning, na nagtatampok ng 5-axis motion at opsyonal na linear o direct-drive motors. Tinitiyak nito ang mataas na repeatability at flexibility, kahit para sa mga kumplikadong geometry o batch processing.
Mga Lugar ng Aplikasyon
Pagproseso ng Silicon Carbide Wafer:
Mainam para sa pagpuputol ng gilid, paghihiwa, at pagtadtad ng mga SiC wafer sa power electronics.
Pagmakina ng Gallium Nitride (GaN) Substrate:
Sinusuportahan ang mataas na katumpakan na pagsulat at paggupit, na iniayon para sa mga aplikasyon ng RF at LED.
Istruktura ng Malapad na Bandgap Semiconductor:
Tugma sa diamond, gallium oxide, at iba pang mga umuusbong na materyales para sa mga high-frequency at high-voltage na aplikasyon.
Pagputol ng Komposit sa Aerospace:
Tumpak na pagputol ng mga ceramic matrix composite at mga advanced na aerospace-grade substrate.
Mga Materyales na LTCC at Photovoltaic:
Ginagamit para sa micro via drilling, trenching, at scribing sa high-frequency PCB at solar cell manufacturing.
Scintillator at Optical Crystal Shaping:
Nagbibigay-daan sa mababang depektong pagputol ng yttrium-aluminum garnet, LSO, BGO, at iba pang precision optics.
Espesipikasyon
| Espesipikasyon | Halaga |
| Uri ng Laser | DPSS Nd:YAG |
| Mga Sinusuportahang Haba ng Daloy | 532nm / 1064nm |
| Mga Opsyon sa Kuryente | 50W / 100W / 200W |
| Katumpakan ng Pagpoposisyon | ±5μm |
| Minimum na Lapad ng Linya | ≤20μm |
| Sona na Naapektuhan ng Init | ≤5μm |
| Sistema ng Paggalaw | Motor na de-linya / direktang nagmamaneho |
| Pinakamataas na Densidad ng Enerhiya | Hanggang 10⁷ W/cm² |
Konklusyon
Binabago ng microjet laser system na ito ang mga limitasyon ng laser machining para sa matigas, malutong, at sensitibo sa init na mga materyales. Sa pamamagitan ng natatanging laser-water integration, dual-wavelength compatibility, at flexible motion system nito, nag-aalok ito ng pinasadyang solusyon para sa mga mananaliksik, tagagawa, at system integrator na gumagamit ng mga makabagong materyales. Ginagamit man sa mga semiconductor fab, aerospace lab, o produksyon ng solar panel, ang platform na ito ay naghahatid ng reliability, repeatability, at precision na nagbibigay-daan sa susunod na henerasyon ng pagproseso ng materyal.
Detalyadong Dayagram









